發(fā)布日期:2021/04/07
純度遠(yuǎn)高于優(yōu)級純的試劑叫做高純試劑。是在通用試劑基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度最 高的試劑。高純試劑控制的是雜質(zhì)項(xiàng)含量,基準(zhǔn)試劑控制的是主含量,基準(zhǔn)試劑可用標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制,但高純試劑不能用于標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制(單質(zhì)氧化物除外)。
高純試劑一般以9來表示產(chǎn)品的純度。故在規(guī)格欄中標(biāo)以2個(gè)9、3個(gè)9、4個(gè)9,以此類推,根據(jù)這個(gè)原則可將高純物質(zhì)分為:
雜質(zhì)總含量不大于1.5×10-2%,其純度為3.5個(gè)9(99.95)簡寫為3.5N
雜質(zhì)總含量不大于1.0×10-2%,其純度為4個(gè)9(99.99)簡寫為4.0N
雜質(zhì)總含量不大于1.0×10-3%,其純度為5個(gè)9(99.999)簡寫為5.0N
對高純試劑或高純元素純度或雜質(zhì)含量的檢驗(yàn),一般常用原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜、色譜、質(zhì)譜比色化學(xué)分析等方法進(jìn)行測定。
高純試劑和光譜純的區(qū)別
除了通用試劑以外,專用試劑是以用途來制定規(guī)格的,試劑的區(qū)別有兩個(gè)方面:一是用途;二是質(zhì)量要求。
高純試劑主要用途:(1)高純分析(2)電子工業(yè)、儀表工業(yè)和冶金工業(yè)中用作高純材料。如用作半導(dǎo)體摻雜源;晶體管和集成電路雜質(zhì)掩蔽膜和保護(hù)層;用作制造電子管、電視攝像管、光導(dǎo)纖維、光學(xué)儀器、光學(xué)玻璃、防X射線鉛玻璃等高純材料。
光譜純,簡寫為SP,試劑的主要用途:用于發(fā)射光譜分析。
高純試劑的質(zhì)量要求:
(1)含量很高,在99.99%以上,有99.99%、99.99%、99.9999%等等,一般用N代表9,4N代表99.99%、5N代表99.999%、6N代表99.999%。
(2)其含量的計(jì)算是100.00%減去陽離子雜質(zhì)總和,如陽離子雜質(zhì)總和是0.01%,則其含量是99.99%,如陽離子雜質(zhì)總和是0.001%,則其含量是99.999%,其次類推。
光譜純試劑的質(zhì)量要求必須符合光譜規(guī)定,即經(jīng)光譜測定,應(yīng)符合下列條件:
(1)允許在光譜儀上出現(xiàn)6個(gè)或小于6個(gè)雜質(zhì)離子。
(2)6個(gè)離子中、若5個(gè)雜質(zhì)離子≤0.001%,另一個(gè)離子允許>0.003%
(3)6個(gè)離子中,若4個(gè)雜質(zhì)離子≤0.001%,另二個(gè)離子允許>0.003%,而其一個(gè)離子應(yīng)為Si、Mg、Ca,另一個(gè)應(yīng)為其它離子。
上述三項(xiàng)要求即為“符合光譜規(guī)定”。
天津光復(fù)生產(chǎn)的高純、光譜純試劑達(dá)到2400種,品種全,質(zhì)量優(yōu),可滿足各類用戶需求,自上市以來,深受各界客戶青睞,歡迎您垂詢選購。
品種 規(guī)格 包裝
溴化鉀 4N/SP 25g/100g
碳酸鈣 4N/SP 25g
碳酸鋇 5N/4N/SP 25g
二氧化鈦 4N/SP 25g
銅粉 4N/SP 10g
氧化鑭 5N/4N/SP 10g/25g
三氧化二鐵 4N/SP 10g
碳酸鋰 4N/SP 25g
磷酸氫二鈉 4N/SP 25
鐵粉 4N/SP 10g
氯化銫 4N/SP 5g
磷酸二氫鈉 4N/SP 25g
氧化鈥 4N/SP 10g
氧化鎂 4N/SP 10g
氧化鑭 4N/SP 25g
硫酸銫 4N/SP 5g
三氧化鎢 4N/SP 10g
氧化鈧 4N/SP 1g
氧化鎵 4N/SP 5g
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